DHPS-1

直流溅射等离子体实验装置

装置包括可拆卸的溅射腔体、溅射靶台、真空抽气系统、测量系统、进气系统等部分组成。采用同轴二极溅射结构，在真空室内以沉积材料为阴极，加工样品为阳极，工作期间两极间加直流电压引起放电，放电气体中的离子被加速轰击靶面，溅射粒子沉积在基片表面成膜。

1、光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量；

2、金属薄膜的制备实验；

3、理解直流溅射原理，掌握直流溅射薄膜材料的工艺方法。

1、溅射靶台和溅射靶距离可调节，研究在不同距离时对薄膜溅射的影响；

2、溅射基片可进行加热，加热温度可控，研究基片温度对薄膜溅射的影响；

3、溅射气压、溅射气源流量可调节，研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响；

4、反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象；

54、反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象；

5、供电电源：AC 220V，50 Hz。

1、溅射腔体外形尺寸：Ф140mm×150mm；

2、溅射靶台：Ф70×20mm；

3、基片加热温度可控范围：室温～80℃；

4、溅射气压可调范围：5～200 Pa；

5、溅射电压：0～1500V连续可调，溅射电流：0～200mA可调；

6、气源流量可控范围：25～250 ml/min。

DHPS-2

直流溅射等离子体实验装置

1、溅射腔体外形尺寸：Ф100mm×130mm；

2、溅射靶台：Ф40，可同时放6个样品；

3、溅射气压可调范围：10～200 Pa；

4、溅射电压：0～1500V连续可调，溅射电流：0～200mA可调；

5、气源流量可控范围： 25～250 ml/min。