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1、溅射镀膜室：304不锈钢真空腔体；箱式前开门结构；
2、真空室尺寸：Φ350×400mm；
3、溅射电源：13.56MHz，射频电源：500W；
4、溅射靶：Φ2英寸磁控靶，基片台和磁控靶可调距离：20～40 m，；预留1个靶位及1对蒸发电极接口；
5、基片温度：室温～500℃ PID控制；
6、基片台尺寸：尺寸Φ120mm；
7、基片台尺寸：自转，转速0-20转/分可调可控；
8、膜厚不均匀性：≤±（1.5～5.0）%；
9、进气系统：二路质量流量计；
10、真空系统：2XZ-4B机械泵+ FF160/620分子泵准无油真空系统；
11、极限真空：6.7×10-5 Pa；
12、恢复真空：6.7×10-3Pa；
13、真空测量：数显复合真空计；
14、供电电源：三相AC380V，50Hz；
15、选购件：蒸发电极+蒸发电源、负偏压电源、循环水机、膜厚控制系统等；
16、用户需自备：冷却水、氩气（99.99%）、靶材等。 | 
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