主要实验内容
真空的获得与测量、蒸发法薄膜制备、直流溅射原理及应用
主要技术参数
1、设备的真空室、油扩散泵、真空管路部件全透明;
2、电气控制有安全防护,防止误操作对人员和设备造成损伤;
3、采用不锈钢管路,阀门为气动双向截止阀;
4、真空室:304不锈钢底盘和玻璃钟罩组成,尺寸:Φ230×260mm;
5、真空测量:数显复合真空计,测量范围:1×105~1×10-5Pa;
6、衬底加热温度:室温~300℃(PID控温),衬底架可旋转,
7、抽气系统:DRV-16双极旋片泵+四级玻璃扩散泵二级真空系统;
采用高真空腔室焊接,清洗工艺,进口氦质谱检漏仪全程跟踪检漏,腔体漏率:小于5.0×10-10Pa/m3/s;
8、极限真空:9.6×10-4Pa;恢复真空:5×10-3Pa<40分钟;
9、热阻蒸发舟及电源
9.1 蒸发源电源:1台, 最大功率:AC10V/150A,
9.2 热阻蒸发舟电极:2个;
9.3 金属蒸发源:配热阻蒸发舟(钨舟);
9.4 独立蒸发舟挡板:1套
10,磁控溅射靶:靶材直径为50.8 mm(2”),靶径2”(50.8毫米)
靶材:非磁性2-5mm厚,采用间接水冷;镀膜方式,由下往上溅镀;
11、溅射电源:最大输出功率500W;输出电压0~-800V可调 1台
12、可镀膜尺寸:一次可镀2英寸基片4片
13、工作电源:AC220V±5%,50Hz;整机功率:约4kW;
14、环境要求:室温低于30℃,湿度≤70%;
15、用户需自备或另购工业水冷机(选配件)。 |