- 方便确定制备参数的扫描功能;；
- 内置安全功能；
- 包括各种材料制备方法的数据库；
- 抛光时间短、再现性高。

• 仪器介绍

• Struers LectroPol-5：微处理器控制的自动电解抛光和金相试样蚀刻设备。独一无二的扫描功能和内置方法缩短了制备时间，并获得高可再现性。特别适用于快速质量控制。

• 产品序号	产品编号	产品描述	数量
  1	04936233	LectroPol 5控制单元 LectroPol 5 Control Unit 自带外置蚀刻装置 (02250121)。	1
  2	04936201	LectroPol 5抛光单元 自带一组面罩(04936915)，一个阴极(04936908)，以及两个电解容器罐(04936902) 。	1
  3	04936915	面罩 用于LectroPol 5抛光单元。 1套5个，带0.5、1、2、5 cm2孔径的面罩和及不带孔的面罩各1个	2
  4	40900008	电解液 A2 Electrolyte A2 用于电解抛光钢、不锈钢、铝和铝合金、镍合金、锡和钛。用于LectroPol 、Polectrol和 Movipol 的多用途电解液。	10
  5	40900011	电解液 A3   用于电解抛光钼、钛、锆和钒。用于LectroPol 、Polectrol、Movipol 和Tenupol 。	10
  6	40900032	电解液 D2 用于电解抛光铜和铜合金。用于LectroPol 、Polectrol、Movipol 和Tenupol 。	10
  7	预计毛重	77KG